美国化学会知名新闻周刊《化学与工程新闻》（C&EN）近日刊登文章——《中国上升》（China Ascendant），文章描述了中国在化学专利申请和发表方面的令人吃惊的增长，这些成果可能为从制药到微芯片的世界市场带来新的和创新性质的产品。
 
《化学与工程新闻》的资深编辑Sophie L. Rovner报告说，中国在2009年成为了年发表化学专利申请数量的世界第一。中国在2009年发表了6.7万个专利申请，相比之下日本是5.2万，美国是4.1万。源自中国的科学论文在过去十年的增长速度比其他任何国家都高。中国作者的论文产量增长到原来的4倍以上——从1998年的2万篇论文到了2008年的11.2万多篇。美国科学论文在同期仅仅增长了30%。
 
在实现这一增长的过程中，中国的科学家正在接纳与美国和其他国家的合作。这篇文章提出，可以越来越清楚地看出，中国正在改变“世界科研地图”，而且令人信服地处于其中心。
 

来源：EurekAlert