科技成果

半导体集成电路生产工艺监测设备

发布日期:2013-12-11浏览量:

项目名称   半导体集成电路生产工艺监测设备 负责人 李同合  
通讯地址   西安交通大学 邮政编码   710049
E-mail   所在院所  
联系人   李同合 电话   :029-82668644 传真  
技术来源  
拥有专利   专利号  
项目简介 (科技在线,版权所有,未经许可,请勿转载 http://www.xjtust.com)
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------ C-V测试系统 ------ (科技在线,版权所有,未经许可,请勿转载 http://www.xjtust.com)
CSM4A系列多功能C-V测试系统,经国家“七五”、“八五”两届重点科技攻关,已在我校研制成功,并被多个半导体集成电路生产厂家和研究所使用。该项目由陈光遂教授主持完成。原电子工业部鉴定认为:该C-V测试系统具备八项测试功能,数据可靠,实用性强,人机界面良好。总体水平已达到九十年代国际先进水平,并有独创性,可以替代进口设备。 (科技在线,版权所有,未经许可,请勿转载 http://www.xjtust.com)
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主要测试功能有:MOS高频CV,MOS衬底掺杂浓度分布,pn结低掺杂边掺杂浓度分布,少数载流子寿命,界面陷阱密度分布,SiO2层中可动Na+ (科技在线,版权所有,未经许可,请勿转载 http://www.xjtust.com)
离子密度等测量。该测试系统主要用于,集成电路和半导体器件生产中的外延、氧化、扩散、离子注入、电子束蒸铝及表面钝化等工序的质量检测,为稳定和优化生产工艺、提高成品率提供了有力保证。亦可在科研单位和高等院校中,作为半导体表面和界面的研究工具。本系统不仅适用于硅材料和SiO2介质膜,也适用于非硅材料(如GaAs)及Si3N4介质膜的测试。 (科技在线,版权所有,未经许可,请勿转载 http://www.xjtust.com)
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欢迎垂询。联系电话,传呼:1928478758, (科技在线,版权所有,未经许可,请勿转载 http://www.xjtust.com)

项目优势 A 市场发展前景很好         B 产品或工艺创新性突出
C 经济效益显著        D 社会效益显著         E 其他
    
现处阶段 A 研发阶段 B 小试阶段 C 中试阶段 D 批量生产阶段
技术领先        (科技在线,版权所有,未经许可,请勿转载 http://www.xjtust.com)
项目可行性分析     

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合作项目
项目总投资(万) 基建费(万) 设备费(万) 成果转让费(万) 流动资金(万) 其他(万)
           
厂房/办公面积及人员要求  
预计年产量   年销售额  
成本(万)   利润(万)  
年投资回报率%   投资回收期  
其他需要说明的问题      (科技在线,版权所有,未经许可,请勿转载 http://www.xjtust.com)

      
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