项目名称 |
半导体集成电路生产工艺监测设备 |
负责人 |
李同合 |
通讯地址 |
西安交通大学 |
邮政编码 |
710049 |
E-mail |
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所在院所 |
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联系人 |
李同合 |
电话 |
:029-82668644 |
传真 |
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技术来源 |
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拥有专利 |
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专利号 |
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项目简介 |
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(科技在线,版权所有,未经许可,请勿转载 http://www.xjtust.com) ------ C-V测试系统 ------
(科技在线,版权所有,未经许可,请勿转载 http://www.xjtust.com) CSM4A系列多功能C-V测试系统,经国家“七五”、“八五”两届重点科技攻关,已在我校研制成功,并被多个半导体集成电路生产厂家和研究所使用。该项目由陈光遂教授主持完成。原电子工业部鉴定认为:该C-V测试系统具备八项测试功能,数据可靠,实用性强,人机界面良好。总体水平已达到九十年代国际先进水平,并有独创性,可以替代进口设备。
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(科技在线,版权所有,未经许可,请勿转载 http://www.xjtust.com) 主要测试功能有:MOS高频CV,MOS衬底掺杂浓度分布,pn结低掺杂边掺杂浓度分布,少数载流子寿命,界面陷阱密度分布,SiO2层中可动Na+
(科技在线,版权所有,未经许可,请勿转载 http://www.xjtust.com) 离子密度等测量。该测试系统主要用于,集成电路和半导体器件生产中的外延、氧化、扩散、离子注入、电子束蒸铝及表面钝化等工序的质量检测,为稳定和优化生产工艺、提高成品率提供了有力保证。亦可在科研单位和高等院校中,作为半导体表面和界面的研究工具。本系统不仅适用于硅材料和SiO2介质膜,也适用于非硅材料(如GaAs)及Si3N4介质膜的测试。
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(科技在线,版权所有,未经许可,请勿转载 http://www.xjtust.com) 欢迎垂询。联系电话,传呼:1928478758,
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项目优势 |
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A 市场发展前景很好
B 产品或工艺创新性突出
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C 经济效益显著
D 社会效益显著
E 其他 |
现处阶段 |
A 研发阶段
B 小试阶段
C 中试阶段
D 批量生产阶段
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技术领先 |
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项目可行性分析 |
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合作项目 |
项目总投资(万) |
基建费(万) |
设备费(万) |
成果转让费(万) |
流动资金(万) |
其他(万) |
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厂房/办公面积及人员要求 |
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预计年产量 |
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年销售额 |
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成本(万) |
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利润(万) |
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年投资回报率% |
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投资回收期 |
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其他需要说明的问题 |
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